AIXTRON AIX G5 WW C 碳化硅化合物半导体沉积系统

将 AIX G5 WW C 定义为化合物半导体沉积系统，面向下一代 SiC 功率电子应用。

写明该系统以批量外延的高吞吐量结合单片晶圆控制，目标是在同一设备方案中兼顾产能和外延层质量。

官方列出的特点包括：同类领先的吞吐量和较低的单位晶圆拥有成本。

官方列出的特点包括：批量配置中的单片晶圆性能，用于获得优良的外延层质量。

官方列出的特点包括：兼容硅晶圆厂的自动化能力，以支持 SiC 功率市场爬坡。

官方列出的特点包括：带热晶圆转移的 Planetary 反应器、高效气体利用、晶圆级温度控制和 cassette-to-cassette 晶圆搬运。

官方列出的特点包括：8x150 mm 配置、单片晶圆旋转、用于批内均匀性的 AutoSat 功能，以及 SECS-GEM 工厂接口。