Annealsys MC-200 200 mm DLI-CVD / ALD 系统
MC-200
MC-200 是面向研发的 200 mm DLI-CVD / ALD 系统，可在同一工艺腔内进行 MOCVD 和 ALD。
广西科米瑞实验仪器设备有限公司生产销售 Annealsys MC-200，可提供产品参数、报价和售后服务咨询，价格面议。
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产品说明
MC-200 是 200 mm thermally controlled wall CVD reactor，面向 MOCVD 工艺研发。
该系统可在同一工艺腔内进行 metal organic chemical vapor deposition 和 atomic layer deposition。
MC-200 可配置 motorized single wafer loadlock，以隔离工艺腔与大气；plasma option 可提供 PE-CVD 和 PE-ALD 能力。
规格参数
| 品牌 | Annealsys |
|---|---|
| 型号 | MC-200 |
| 产品类型 | 200 mm DLI-CVD / ALD 系统 |
| 处理尺寸 | 200 mm |
| 工艺能力 | MOCVD、ALD，可选 PE-CVD 和 PE-ALD |
| 可选配置 | motorized single wafer loadlock |
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