ASM International XP4 Pulsar 原子层沉积系统
XP4 Pulsar
Pulsar 反应器用于支持铪基高 k 介电材料在晶体管栅极中的应用，并用于满足 finFET 等先进节点三维晶体管结构的性能要求。Pulsar 反应腔和源输送系统针对精确气流动态和最短吹扫时间进行了优化，支持先进工艺控制、薄膜纯度和均匀性
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Pulsar 反应器用于支持铪基高 k 介电材料在晶体管栅极中的应用，并用于满足 finFET 等先进节点三维晶体管结构的性能要求。
Pulsar 反应腔和源输送系统针对精确气流动态和最短吹扫时间进行了优化，支持先进工艺控制、薄膜纯度和均匀性。
Pulsar 面向固体源前驱体材料的气体输送设计。
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