ASM International XP8 JQCM PEALD 等离子体增强原子层沉积系统
XP8 JQCM PEALD
XP8 JQCM PEALD 支持每个平台最多四个独立四腔工艺模块，每个模块集成四个反应腔。反应器设计用于提高前驱体效率、减少 ALD 循环时间，并支持低温沉积高质量 SiN 薄膜
广西科米瑞实验仪器设备有限公司提供 ASM International XP8 JQCM PEALD 产品资料、选型咨询、供货报价和售后服务支持，价格面议。
← 返回产品列表
说明
XP8 JQCM PEALD 支持每个平台最多四个独立四腔工艺模块，每个模块集成四个反应腔。
反应器设计用于提高前驱体效率、减少 ALD 循环时间，并支持低温沉积高质量 SiN 薄膜。
系统强调薄膜应力和阶梯覆盖率控制，以满足下一代逻辑器件要求。
规格
| 型号 | XP8 JQCM PEALD |
|---|---|
| 产品名称 | XP8® JQCM™ PEALD |
| 产品说明 | XP8® JQCM™ is a high-performance 300 mm plasma-enhanced atomic layer deposition (PEALD) system, purpose-built for advanced silicon nitride (SiN) deposition in logic semiconductor manufacturing. Engineered for next-generation device fabricat |
FAQ
提交需求
请填写必填信息，我们将在工作日尽快回复。