EM ACE600 溅射镀膜机
EM ACE600
使用，充满信心地制备用于电镜分析的细粒度薄膜。精确的自动化碳镀膜和溅射镀膜工艺可产生值得信赖的可重现结果，提高每次运行的样本产出。碳、电子束和溅射镀膜——精度值得信赖
广西科米瑞实验仪器设备有限公司生产销售 Leica Microsystems EM ACE600，可提供产品参数、报价和售后服务咨询，价格面议。
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使用 EM ACE600 溅射镀膜机，充满信心地制备用于电镜分析的细粒度薄膜。精确的自动化碳镀膜和溅射镀膜工艺可产生值得信赖的可重现结果，提高每次运行的样本产出。
碳、电子束和溅射镀膜——精度值得信赖
通过碳镀膜获得可重现的高品质薄膜
EM ACE600 可以通过碳丝镀膜、碳棒镀膜或电子束蒸发生成高品质碳膜
适合广泛应用领域的高真空镀膜系统
EM ACE600 溅射镀膜机装有可配置式金属处理室，十分灵活，适合广泛的应用领域。实现工作流程目标，满足实验室需求——可在同一个制备过程中运行两个不同的溅射源，还可配置 EM ACE600 用于高级冷冻工作流程。
通过方便的前门装载方法、仅需按下一个按钮即可启动的收料即镀式自动化镀膜过程，EM ACE600 可以让您简单可靠地制备常规样本并节省宝贵的时间。
对扁平或结构化的非导电样本进行高分辨率成像
增强纳米级结构（如蛋白质或 DNA 链）的对比度
生成透射电镜 (TEM) 载网的薄而坚固的支撑层，或者
为敏感样本提供保护层
扩展冷冻应用中的系统
通过溅射镀膜获得可重现的高品质薄膜
使用 EM ACE600 高真空镀膜系统，每次运行均可始终一致地生成高品质的溅射镀膜薄膜。使用收料即镀的自动化溅射镀膜工艺，满足先进镀膜所需的适当条件并实现可重现的结果。
可进行高达 200kX 的高放大倍率扫描电镜 (SEM) 分析，具有出色的基础真空度（<2x10-6 mbar），可为各种不同的溅射靶材仔细均衡调整工艺参数。根据样本形态的需要调整样本距离和镀膜角度。
为进一步加强镀膜效果，可以使用 Meissner 捕集器将真空度提高到 10-7 mbar，之后再尝试对氧敏感的溅射靶材或样本材料。
EM ACE600 可以通过碳丝镀膜、碳棒镀膜或电子束蒸发生成高品质碳膜。
自从徕卡显微系统开发出应用于 EM ACE600 的独特自适应脉冲方法以来，
碳丝蒸发已成为一种广泛使用的方法。它可生成精确、稳定、非晶态的亚纳米级厚度的薄膜，同时最大限度减少对样本的热损伤影响。无论您需要纳米级厚度、坚固且洁净的透射电镜支撑层、扩散（保护）镀膜还是大面积均质碳层，碳丝都是适合您需求的不二之选。
对于专用应用领域，如旋转投影，可以使用电子束蒸发器。其小光束发散功能非常适合投影镀膜，可增强纳米级结构的边缘对比度。
碳镀膜在电镜领域的应用十分广泛。它需要具有导电性，但对电子束透明，并且不能具有颗粒结构。
采用自适应脉冲方法的 EM ACE600 碳丝所生成的薄膜，厚度精确、坚固并具有导电性，还可以通过烘焙法进一步减少污染。最终，这类薄膜提供：
足以承受电子轰击的强度
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