JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统

最新高精密 JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统，通过全方位的设计优化，实现更简便的操作，更快的刻写速度，更小的占地面积和安装空间，并且更加绿色节能。

1. 节省空间

标准的设备占地面积为4.9m（W）×3.7m（D）×2.6m（H），比以往机型占用空间更小，外形更加紧凑美观。

2. 低功耗

正常工作时的功耗约为3kVA，仅需以往机型耗电量的1/3。

3. 高产能

具备高分辨率和高速两种刻写模式，非常适用于超微细加工以及批量生产。该设备减少了刻写过程中的无谓耗时，并将扫描频率提升至业界最高最水准的125MHz (以往机型的1.25～2.5倍)，使其具备更高的生产能力。

JBX-8100FS系列设有G1（基本版）和G2（全配版）两种机型。G1机型装机后也可进行升级，使其支持更高的应用需求。

5. 新功能

安装光学显微镜（选配）后，在避免光刻胶感光的的同时可对材料上的图形进行确认。设备还配备了信号塔（标配），实现了视觉范围内的系统运行状况监控。

6. 激光定位分辨率

激光定位分辨率

采用分辨率为0.6nm的激光干涉仪，对样品台位置进行高精度的量测控制。

7. 系统控制

配备了Linux®系统，图形用户界面使操作更加简单，便于初学者使用。数据准备程序支持Linux®和Windows®

备注：Linux® 为Linus Torval在日本及其它国家的注册商标或商标。Windows为美国微软公司在美国及其它国家的注册商标或商标。

日本电子株式会社 半导体设备营业部

JEOL Ltd. SE Department EB Sales Group

〒196-8558 3-1-2 Musashino, Akishima, Tokyo

TEL：+81-42-542-2383