JBX-3050MV / S 电子束光刻系统
JBX-3050MV
JBX-3050MV/S 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统，具备先进的技术，实现了高速、高精度和高可靠性，可用于制作45nm～32nm 节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻。
广西科米瑞实验仪器设备有限公司生产销售 JEOL JBX-3050MV，可提供产品参数、报价和售后服务咨询，价格面议。
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JBX-3050MV/S 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统，具备先进的技术，实现了高速、高精度和高可靠性，可用于制作45nm～32nm 节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻。
JBX-3050MV/S 是用于制作45nm～32nm 节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。
* 具有先进的技术，实现了高速、高精度和高可靠性。
* 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统。
* 利用步进重复式曝光的优点，结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能，能支持下一代掩模版/中间掩模版（mask/reticle）图形制作所需要的多种补偿。
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