JPS-9030 光电子能谱仪

采用全新设计的用户界面，支持日语环境操作，实现了"任何人皆可简单快速使用"的目标。此外，标准配置了Kaufman型蚀刻离子源和双阳极，尽管是通用XPS，却具备高温加热系统、气体簇离子源等广泛的扩展性能。

1. 可实现短时间测量的广域分析

可实现短时间测量的广域分析

JPS-9030是一款分析区域达毫米量级、适用于样品广域分析的XPS设备，擅长进行平均值分析。无需担心样品偏析或局部污染等问题，即可获取样品本身的信息。该设备适用于粉末、薄膜、板材等样品的元素分析及化学键合状态分析。

@ 广域分析实例- LIB正极材料的元素分析

LIB正极材料看似均质，但如果分析范围过窄，元素分析结果可能会出现偏差。相比之下，通过扩大分析范围，可以避免局部污染等因素的影响，获取材料的平均信息。

下面左图：缩小分析范围测量3个位置 ⇒ 结果偏差较大，下面右图：扩大分析范围测量3个位置 ⇒ 结果偏差较小

2. 软件 SPECSURF让操作变得简单

支持日文的新开发软件 SPECSURF Ver.2.0，采用了功能区界面与选项卡窗口系统的组合设计，仅通过鼠标操作即可提供用户友好的操作环境。

3. 仪器构成

3.1 Mg/Al双阳极X射线源

JPS-9030可使用单色化X射线源和Mg/Al双阳极X射线源。Mg/Al双阳极X射线源可将照射到样品上的X射线在Mg K线和Al K线之间切换，因此即使对于元素种类繁多、光电子峰与俄歇峰易发生重叠的样品，也能顺利进行测量。

@ Mg/Al双阳极X射线源分析实例 -含有 Fe,Ni样品的分析

在XPS光谱中，光电子峰与俄歇峰容易发生重叠的典型例子是含有多种过渡金属元素的样品。下图是对含有Fe和Ni的样品进行测定的例子。可以看出，使用Mg射线源时，可以有效避免使用Al射线源时出现的峰重叠现象。

左图：Al射线源測定⇒峰重叠 右图：Mg射线源測定⇒没有峰重叠

3.2 Kaufman型离子源

JPS-9030配备了Kaufman型离子源作为Ar离子源。这是一种可获得大电流的离子源，即使降低加速电压也能进行实用的蚀刻。这使得在维持样品结构的前提下进行蚀刻成为可能。此外，JPS-9030将离子源配置在样品准备室中，蚀刻飞溅物会被限制在样品准备室内，因此保持在超高真空状态的分析室不会被污染。

@ Kaufman型离子源分析例 - EUV光刻用Mo/Si多层膜反射镜

JPS-9030可从样品垂直方向照射低加速Ar离子，因此可用于极薄多层膜的深度方向分析。以下是EUV光刻用Mo/Si多层膜反射镜的深度方向分析结果。即使是单层厚度约为10 nm的薄膜，也能捕捉其层状结构，并可评估界面的陡峭性。

4. 丰富的可选件