X'Pert³ MRD XL

X'Pert³ is now a Smart Instrument!. Find out more

马尔文帕纳科新一代 X'Pert³ MRD XL 高分辨X射线衍射仪其可靠性的增强及性能的改进提高了分析能力，提供一体化解决方案来满足不同需求和应用：

半导体和单晶晶圆：倒易空间探索、摇摆曲线分析

超薄薄膜、纳米材料和非晶层：掠入射物相鉴定、面内衍射

非常温条件下的测量：随温度和时间变化的峰高

X'Pert3MRD XL 的设计和功能与 X'Pert3MRD 相同，但尺寸更大，并且配有增强的欧拉环样品台以支撑超大和沉重的样品。MRD XL 提供了可自动定心的晶圆样品架，允许装载和校准直径达 300 mm 的晶圆。

X'Pert3 MRD 将新技术融入到了测角仪轴承设计和位置编码中，从而提高了整体性能。在测角仪轴承上应用的创新成果改进了黏滑行为，即使是在高负载条件下，也能够极其流畅地作旋转移动。在 omega 和 2theta 轴上使用了一流的 Heidenhain 光学编码器，因而改进了短距离和长距离准确性，并且同时提高了位置报告和测角仪定位的速度。

X'Pert3 MRD 的欧拉环样品台可实现高精度、可重复且无障碍的移动，方便进行样品旋转、倾斜以及 x 轴、y 轴和 z 轴平移，确保为要求严格的 XRD 应用实现用途广泛且准确的样品定位。

马尔文帕纳科的 PreFIX（预校准且可快速更换的 X 射线模块）概念使 MRD XL 能够在无需重新校准的情况下进行更换配置。当实验要求发生改变时，可以轻松添加新的 PreFIX 组件，这使得整套方案变得灵活、快速且能满足未来的需要。可提供选择丰富的 PreFIX 模块，包括：

马尔文帕纳科的探测器产品组合在不断发展。PIXcel3D 探测器具有在半导体和薄膜应用中的特殊优势，该探测器具备完整的多功能性，允许实现高动态范围的测量，而无需进行光束衰减。PIXcel 探测器可用于各类应用需求，可以轻松地将它从 0D 接收狭缝模式切换为 1D 和 2D 静态及扫描模式。

X'Pert3 MRD XL 是高产能环境的理想选择。它可以通过一个自动晶圆装载机械手进行扩展，该机械手具有从晶圆盒到晶圆盒的处理和操作软件，能够对晶圆进行批量处理。定制的解决方案可以安装在墙上。

X'Pert3 MRD XL 将新技术融入到了测角仪轴承设计和位置编码中，从而提高了整体性能。在测角仪轴承上应用的创新成果改进了黏滑行为，即使是在高负载条件下，也能够极其流畅地作旋转移动。在 omega 和 2theta 轴上使用了一流的 Heidenhain 光学编码器，因而改进了短距离和长距离准确性，并且同时提高了位置报告和测角仪定位的速度。

X'Pert3 MRD XL的欧拉环样品台可实现高精度、可重复且无障碍的移动，方便进行样品旋转、倾斜以及 x 轴、y 轴和 z 轴平移，确保为要求严格的 XRD 应用实现用途广泛且准确的样品定位。

Malvern Panalytical X’Pert³ MRD 和 MRD XL 是一体化 X 射线解决方案系统，可用于许多行业应用，包括：

无论是用于生长研究还是设备设计，利用高分辨率 XRD 测量薄膜质量、厚度、应变及合金组分，已成为电子与光子多层半导体器件研发的核心。借助多种可供选择的 X 射线反射镜、单色器和探测器，X’Pert3 MRD 和 MRD XL 提供了高分辨率配置以适应不同的材料系统 - 从晶格匹配半导体，到弛豫缓冲层，以及非标准衬底上的新型异质外延层。

多晶层和涂层是许多薄膜和多层设备的重要组成部分。沉积过程中多晶层形貌的演变是功能材料研发领域的重点研究方向。X’Pert3 MRD 和 X’Pert3 MRD XL 可全面配备狭缝系统、平行光 X 射线反射镜、多毛细管透镜、交叉狭缝和单毛细管光路等一系列入射光路部件以供反射率、应力、织构和物相鉴定测试来做选择。

功能设备可能包含无序、非晶或纳米复合材料薄膜。X’Pert3 MRD 和 MRD XL 系统的灵活性允许结合使用多种分析方法。提供了一系列高分辨率光学器件、狭缝和平行板准直器来为掠入射、面内衍射和反射率测试实现最佳的性能。

研究材料在各种条件下的变化是材料研究和过程开发的一个重要组成部分。X’Pert3 MRD 与 MRD XL 设计灵活，可轻松集成 Anton Paar DHS1100 非环境样品台，从而能够在一系列温度范围和惰性气体环境下自动进行测量。