Model C&D P9000 / OAI 6000
Model C&D P9000 / OAI 6000 集成光刻单元覆盖涂胶、烘烤、对准曝光和显影流程,用于动态晶圆流和并行工艺处理。
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Model C&D P9000 / OAI 6000 集成光刻单元覆盖涂胶、烘烤、对准曝光和显影流程,用于动态晶圆流和并行工艺处理。
| 品牌 | OAI |
|---|---|
| 型号 | Model C&D P9000 / OAI 6000 |
| 流程 | Coat / Bake / Align-Expose / Develop |
| 制造地 | USA |
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