FlexAL
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Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。系统可提供远程等离子体原子层沉积（ALD），这为纳米结构和器件的工程设计提供了一系列新的灵活性和可行性
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说明
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器
FlexAL系统可提供远程等离子体原子层沉积（ALD），这为纳米结构和器件的工程设计提供了一系列新的灵活性和可行性。
在同一设备中可灵活使用远程等离子体与热ALD
集群式配置保证始终于真空下传送衬底
盒式对盒式操作可提高产能以适于量产
对材料和气体/液体源的选择具有更大的灵活性
等离子体ALD可进行低温工艺
使用远程等离子体以确保低损伤
通过配方驱动的软件界面实现可控的和可重复的工艺
可处理高达200mm的晶圆
规格
| 型号 | FlexAL |
|---|---|
| 产品分类 | Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / ALD |
| 晶圆/样品尺寸 | 处理高达200mm的晶圆 |
| 工艺类型 | 原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津 |
| 工艺类型 | 原子层沉积（ALD），这为纳米结构和器件的工程设计提供了一系列新的灵活 |
| 设备能力 | 低损伤 通过配方驱动的软件界面实现可控的和可重复的工艺 可处理高达200mm的晶圆 |
FAQ
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