PlasmaPro 100 Estrelas
PlasmaPro 100 Estrelas
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。若要查看此视频，请启用JavaScript，并考虑升级到支持HTML5视频的web浏览器
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说明
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器
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PlasmaPro 100 Estrelas 平台旨在提供深硅蚀刻（DSiE）领域的全方位的灵活性以满足微电子机械系统（MEMS）、先进封装以及纳米技术市场的各种工艺要求。考虑到研究和生产的市场发展，PlasmaPro 100 Estrelas 提供了更加出色的工艺灵活性。
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高刻蚀速率腔刻蚀
延长了两次清洗间的平均时间间隔（MTBC）
规格
| 型号 | PlasmaPro 100 Estrelas |
|---|---|
| 产品分类 | Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / DSiE |
| 工艺类型 | 原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津 |
| 产品特性 2 | Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 |
| 产品特性 3 | 高刻蚀速率腔刻蚀 |
FAQ
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