CVD/ALD/刻蚀工艺 Model: Qulee RGM2-201F
Qulee RGM2-201F
Model: Qulee RGM2-201F。最适合用于CVD/刻蚀/ALD过程管理。关于Model: Qulee RGM2-201F的介绍、购买、商讨。排气系统和控制系统集成，实现纵向放置，即使在空间有限的生产线上也可以进行反应气体监测，因为足迹是世界上最小的
广西科米瑞实验仪器设备有限公司生产销售 ULVAC Qulee RGM2-201F，可提供产品参数、报价和售后服务咨询，价格面议。
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气体分析仪（工艺气体监测仪）
CVD/ALD/刻蚀工艺
Model: Qulee RGM2-201F
最适合用于CVD/刻蚀/ALD过程管理
关于Model: Qulee RGM2-201F的介绍、购买、商讨
排气系统和控制系统集成，实现纵向放置，即使在空间有限的生产线上也可以进行反应气体监测，因为足迹是世界上最小的。
在维护期间，灯丝套件的更换速度大大提高2名工人在10分钟内完成了120分钟的工作。
使用双灯丝，即使第一根灯丝断线，也可以在不停止生产线的情况下进行气体分析。
采用触摸屏，可以实时检查情况。
从启动到测量的操作仅在个人计算机上完成。
采用敝公司独特的带磁铁的Closed Ion Source,即使在反应性过程中也可以长时间稳定测量。
由于具有低气体解离和高灵敏度的电离室，因此仅使用法拉第杯就可以进行高灵敏度的气体分析。
一种紧凑的流道控制阀，可防止热反应引起的分解和吸附。
缩短了从工艺室到离子源的距离，可以快速响应分解。
增强预防保护功能 离子源，二次电子倍增管的预防性保护 安装分析管的可追溯性功能 (专利5016031号)
标准软件与Windows 8/10/11兼容。
CVD·ALD·Etching装置
过程中反应气体的监测
蚀刻清洗过程的端点监视器
残余气体测量
*1 备用灯丝 (FIL2) 不适用
差动排气系统
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