PlasmaPro 80 ICPCVD
PlasmaPro 80 ICPCVD
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。PlasmaPro 80是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案
广西科米瑞实验仪器设备有限公司生产销售 Oxford Instruments Plasma Technology PlasmaPro 80 ICPCVD，可提供产品参数、报价和售后服务咨询，价格面议。
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Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器
PlasmaPro 80是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。它易于放置，便于使用，且能够确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是科学研究、原型设计和小批量生产的理想选择。它通过优化的电极冷却和出色的衬底温度控制来实现高性能工艺。
直开式设计允许快速装卸晶圆
出色的刻蚀控制和速率测定
出色的晶圆温度均匀性
晶圆最大可达200mm
符合半导体行业 S2 / S8标准
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