灵活的自动扫描系统 MDPmap

灵活的自动扫描系统 MDPmap MDPmap设计用于离线生产控制或研发、测量少子寿命、光电导率、电阻率和缺陷信息等参数的小型台式无触点电特性测量仪器，在稳态或短脉冲激励下(μ-PCD)下工作。自动的样品识别和参数设置允许在从原始生长晶片到高达95%金属化晶片的各种工艺阶段之后，容易地应用于包括外延层的各种不同样品。MDPmap的主要优点是灵活性高。例如，它允许集成多达四个激光器，用于从超低注入到高注入的与注入水平相关的寿命测量，或者通过使用不同的激光波长提取深度信息。包括偏光设施，以及μ-PCD或稳态注入条件的选择。可以使用不同的测量图形进行客户定义的计算，以及导出用于进一步评估的主要数据。对于标准测量，预定义的标准仅通过按一个按钮即可实现常规测量。优势 在几乎任何生产阶段，电活性缺陷或材料性能的可视化实现了工艺优化和设备的性能预测。其通用的测量方法可实现特殊测量以及国际标准的可追溯性。小型紧凑的台式工具，具有很高的测量灵敏度，便于快速常规测量。想获取更多信息，请点击此处。想获取更多信息，请点击此处。灵活的自动扫描系统 MDPmap MDPmap设计用于离线生产控制或研发、测量少子寿命、光电导率、电阻率和缺陷信息等参数的小型台式无触点电特性测量仪器，在稳态或短脉冲激励下(μ-PCD)下工作。自动的样品识别和参数设置允许在从原始生长晶片到高达95%金属化晶片的各种工艺阶段之后，容易地应用于包括外延层的各种不同样品。MDPmap的主要优点是灵活性高。例如，它允许集成多达四个激光器，用于从超低注入到高注入的与注入水平相关的寿命测量，或者通过使用不同的激光波长提取深度信息。包括偏光设施，以及μ-PCD或稳态注入条件的选择。可以使用不同的测量图形进行客户定义的计算，以及导出用于进一步评估的主要数据。对于标准测量，预定义的标准仅通过按一个按钮即可实现常规测量。优势 在几乎任何生产阶段，电活性缺陷或材料性能的可视化实现了工艺优化和设备的性能预测。其通用的测量方法可实现特殊测量以及国际标准的可追溯性。小型紧凑的台式工具，具有很高的测量灵敏度，便于快速常规测量。MDPmap设计用于离线生产控制或研发、测量少子寿命、光电导率、电阻率和缺陷信息等参数的小型台式无触点电特性测量仪器，在稳态或短脉冲激励下(μ-PCD)下工作。自动的样品识别和参数设置允许在从原始生长晶片到高达95%金属化晶片的各种工艺阶段之后，容易地应用于包括外延层的各种不同样品。MDPmap的主要优点是灵活性高。例如，它允许集成多达四个激光器，用于从超低注入到高注入的与注入水平相关的寿命测量，或者通过使用不同的激光波长提取深度信息。包括偏光设施，以及μ-PCD或稳态注入条件的选择。可以使用不同的测量图形进行客户定义的计算，以及导出用于进一步评估的主要数据。对于标准测量，预定义的标准仅通过按一个按钮即可实现常规测量。优势 在几乎任何生产阶段，电活性缺陷或材料性能的可视化实现了工艺优化和设备的性能预测。其通用的测量方法可实现特殊测量以及国际标准的可追溯性。小型紧凑的台式工具，具有很高的测量灵敏度，便于快速常规测量。MDPmap设计用于离线生产控制或研发、测量少子寿命、光电导率、电阻率和缺陷信息等参数的小型台式无触点电特性测量仪器，在稳态或短脉冲激励下(μ-PCD)下工作。自动的样品识别和参数设置允许在从原始生长晶片到高达95%金属化晶片的各种工艺阶段之后，容易地应用于包括外延层的各种不同样品。MDPmap的主要优点是灵活性高。例如，它允许集成多达四个激光器，用于从超低注入到高注入的与注入水平相关的寿命测量，或者通过使用不同的激光波长提取深度信息。包括偏光设施，以及μ-PCD或稳态注入条件的选择。可以使用不同的测量图形进行客户定义的计算，以及导出用于进一步评估的主要数据。对于标准测量，预定义的标准仅通过按一个按钮即可实现常规测量。在几乎任何生产阶段，电活性缺陷或材料性能的可视化实现了工艺优化和设备的性能预测。其通用的测量方法可实现特殊测量以及国际标准的可追溯性。小型紧凑的台式工具，具有很高的测量灵敏度，便于快速常规测量。