RIE等离子蚀刻设备 RIE-10NR
RIE-10NR
RIE-10NR是一种新型的低成本、高性能的全自动反应离子蚀刻系统，它能满足非腐蚀性气体化学最苛刻的工艺要求。计算机化的触摸屏为参数控制和存储提供了一个用户友好的界面
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说明
反应离子刻蚀
RIE等离子蚀刻设备 RIE-10NR
RIE等离子蚀刻设备 RIE-10NR新型低成本和高性能
RIE-10NR是一种新型的低成本、高性能的全自动反应离子蚀刻系统，它能满足非腐蚀性气体化学最苛刻的工艺要求。计算机化的触摸屏为参数控制和存储提供了一个用户友好的界面。该系统可实现精确的侧壁轮廓控制和材料间的高蚀刻选择性。RIE-10NR具有时尚、紧凑的设计，需要最小的洁净室空间。
主要特点和优点
最大加工范围：ø220 mm (ø3" x 5, ø4" x 3, ø8" x 1)
高选择性各向异性蚀刻满足苛刻的工艺要求。
全自动 "一键式 "操作，可完全手动操作。
计算机触摸屏为参数控制和存储提供了一个用户友好的界面。
自动压力控制，可精确控制工艺压力，不受气体流量影响。
干式泵和系统布局便于维护。
可靠和耐用的系统，全球安装了400多个系统。
Si、SiO2、SiN、Poly-Si、GaAs、Mo、Pt、Polyimide等各种材料的蚀刻。
故障分析中的选择性层蚀刻
光阻剂的灰化、剥离和除尘。
表面改性（润湿性和附着力的改善）
规格
| 型号 | RIE-10NR |
|---|---|
| 产品类别 | plasma etching system |
| 技术参数 | RIE等离子蚀刻设备 RIE-10NR |
| 技术参数 | RIE等离子蚀刻设备 RIE-10NR新型低成本和高性能 |
| 技术参数 | RIE-10NR是一种新型的低成本、高性能的全自动反应离子蚀刻系统，它能满足非腐蚀性气体化学最苛刻的工艺要求。计算机化的触摸屏为参数控制和存储提供了一个用户友好的界面。该系统可实现精确的侧壁轮廓控制和材料间的高蚀刻选择性。RIE-10NR具有时尚、紧凑的设计，需要最小的洁净室空间。 |
| 技术参数 | 最大加工范围：ø220 mm (ø3" x 5, ø4" x 3, ø8" x 1) |
| 技术参数 | 可靠和耐用的系统，全球安装了400多个系统。 |
| 技术参数 | Si、SiO2、SiN、Poly-Si、GaAs、Mo、Pt、Polyimide等各种材料的蚀刻。 |
FAQ
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