PlasmaPro 800 RIE
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。PlasmaPro 800系列是结构紧凑、且使用方便的直开式系统,该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻(RIE)工艺提供了灵活的解决方案
广西科米瑞实验仪器设备有限公司生产销售 Oxford Instruments Plasma Technology PlasmaPro 800 RIE,可提供产品参数、报价和售后服务咨询,价格面议。
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Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器
RIE Etching
PlasmaPro 800系列是结构紧凑、且使用方便的直开式系统,该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻(RIE)工艺提供了灵活的解决方案。大尺寸的晶圆平台能够处理量产级别的批量以及300mm晶圆的工艺。
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准确的衬底温度控制
成熟的300mm单晶圆失效分析工艺
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