
PlasmaPro 100 RIE
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。模式可为多种材料提供各向异性干法刻蚀工艺。实时监测清洗工艺,并且可自动停止工艺
- 型号
- PlasmaPro 100 RIE
- 产品分类
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / RIE Etching
- 晶圆/样品尺寸
- 兼容200mm以下所有尺寸的晶圆 快速更换不同尺寸晶圆 购置成本低且易于维护 出色的均匀性,高产量和高工艺精度 实时监测清洗
- 温度范围
- -150°C至400°C

