液氮储存罐
是为短距离液氮运输和液氮的再分配而设计的容器。其独特的窄口和颈管设计，能有效降低液氮蒸发率，并可接入液氮泵，实现液氮加压排出。
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Miri 桌面干式二氧化碳培养箱
适用于常规/长期的IVF胚胎细胞培养。，先进的温度控制系统，适用于常规/长期的IVF胚胎细胞培养。卓越的质量控制系统，便捷的腔室参数验证?
Mini Miri 桌面湿式二氧化碳培养箱
简洁的机体设计和独有的热量控制，能够有效地缩短腔室打开后温度和气体的恢复速度。集成温度、湿度、气体传感器，精确控制培养环境?
Miri TL 时差培养箱
Miri TL系列时差培养箱，可实现对胚胎从受精到移植的整个发育过程中，完全无打扰监控。Miri TL系列时差培养箱，通过独特设计的内置Time-lapse拍照系统，可以观察到胚胎发育的重要节点，可实现对胚胎从受精到移植的整个发育过程中，完全无打扰监控
MIRI Ⅱ-12 胚胎培养箱
适用于常规和长期的胚胎培养，为每组胚胎提供独立腔室。MIRI Ⅱ-12 是一款具有12个独立腔室的干式培养箱，精准的温度和气体控制系统，适用于常规/长期的胚胎细胞培养
Esco CelMate 二氧化碳培养箱
CelMate二氧化碳培养箱已广泛应用在辅助生殖领域，为胚胎发育的各个环节中提供舒适的培养环境。ULPA过滤器，ISO5级样品腔空气洁净度?。Smartsense 微电脑控制，全面监控运行参数?
Miri GA 气体和温度验证设备
可以持续监测并独立验证培养腔室的温度和气体参数。Miri GA 是一款易于操作的参数独立验证设备，可适配多种Esco培养箱型号，例如Miri TL时差培养箱，Miri，MIRI Ⅱ-12，Mini Miri等培养箱
Esco Fertilisafe 体外受精（IVF）超净工作台
先进的辅助生殖体外受精（IVF）超净工作台，专为IVF胚胎处理和操作设计。ULPA超高效空气过滤器提供卓越的空气洁净度?。台面分区加热，提供稳定的温度均一性?。ISOCIDE抗菌涂层，抑制表面细菌滋生，保持机体洁净?
摇摆式细胞扩增系统
是一个自动化的细胞培养平台，专为满足生物产业细胞培养可控环境需求设计，可广泛应用于研发、工艺开发和商业制造阶段。是一个自动化的细胞培养平台，专为满足生物产业细胞培养可控环境需求设计，可广泛应用于研发、工艺开发和商业制造阶段
Esco CPI 细胞制备工作站
Esco细胞工作站为细胞治疗企业打造细胞药物柔性制造平台，集成细胞药物制备所需的关键仪器设备，实现分离提取、诱导活化、扩增培养、换液、收集等全站功能
Esco GPPI 无菌检测隔离器
无菌检测法系用于检查药典要求无菌的药品、生物制品、医疗器具、原料、辅料及其他品种是否无菌的一种方法。无菌隔离器是无菌检查的基础设备，主要用于无菌产品的检验放行
Esco 研发型隔离灌装系统
半自动隔离灌装系统特别适用于研发型、中小试企业和多品种（无菌）有毒产品的研发。• 半自动隔离灌装系统特别适用于研发型、中小试企业和多品种（无菌）有毒产品的研发?
Esco 西林瓶灌装加塞（轧盖）机
西林瓶灌装加塞（轧盖）机适用于多品种无菌产品的研发和中试生产，针对单抗类、XDC类、基因治疗/细胞治疗、生物制品等产品提供完美的无菌保护。
EVG ® 20
IR Inspection System。IR and bond strength measurement of bonded wafer stacks
EVG ® 40 NT
Automated Measurement System。Versatile, high-accuracy metrology for bonding and lithography
EVG ® 40 NT2
Automated Measurement System。High-Speed High-Precision Metrology for 3D and Heterogeneous Integration
EVG ® 40 D2W
Die-to-Wafer Overlay Metrology System。Dedicated Die-to-Wafer overlay metrology platform for 100 percent die overlay measurement
EVG ® 50
Automated Metrology System。High-throughput, high-resolution metrology for bonded stacks and single wafers
EVG ® 610
Mask Alignment System。The is a compact and multi-purpose R&D system that can handle small substrate pieces and wafers up to 200 mm.
EVG ® 620 NT
Mask Alignment System (semi-automated / automated)。The provides state-of-the art mask alignment technology on a minimized footprint area up to 150 mm wafer s...
EVG ® 6200 NT
Mask Alignment System (semi-automated / automated)。The mask aligner is a versatile tool for optical double-side lithography and wafer sizes up to 200 mm.
LITHOSCALE ®
Maskless Exposure Lithography System。is a revolutionary, highly versatile maskless exposure lithography platform geared for a variety of microfabrication app...
LITHOSCALE ® XT
High Throughput Maskless Exposure Lithography System。is a revolutionary, highly versatile maskless exposure lithography platform geared for a variety of micr...
EVG ® 101
Advanced Resist Processing System。The perfect solution for single-wafer resist processing in R&D and small-scale production
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