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型号
PlasmaPro 100 ALE
产品分类
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / ALE
工艺类型
原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津
工艺类型
原子层沉积(ALD)等效工艺 卓越的刻蚀深度控制 非常适用于纳米尺度层
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