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Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / DSiE
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Ionfab 300 IBE
产品分类
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / Ion Beam
工艺类型
原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津
工艺类型
离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广
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