Ionfab 300 IBE
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式
- 型号
- Ionfab 300 IBE
- 产品分类
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / Ion Beam
- 工艺类型
- 原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津
- 工艺类型
- 离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广