PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE Etch
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。若要查看此视频,请启用JavaScript,并考虑升级到支持HTML5视频的web浏览器
- 型号
- PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE Etch
- 产品分类
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / ICP Etching
- 晶圆/样品尺寸
- 适用于最大尺寸为200毫米的晶圆,支持包括GaAs和InP激光光电子、SiC和GaN电力电子/射频以及
- 晶圆/样品尺寸
- 兼容 晶圆尺寸之间的快速转换 原位腔室清洁和终点控制功能

