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UP-100
HORIBA 的 UP-100 系列提供仅 500 uL/单次测量的超低样品消耗，支持对包括半导体（清洗、刻蚀和电镀）、化学制造、生物、制药、食品加工等在内的各种关键制程进行连续的 pH 监控。
- 型号/名称
- UP-100
UVISEL 2 VUV
专为VUV 测量设计，能够在充氮气或抽真空模型下工作。具备高准确性；超快测量速度；快速样品室抽真空能力，方便快速更换样品；氮气消耗量少。光谱范围可覆盖147-2100nm。
- 型号/名称
- UVISEL 2 VUV
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Leica Microsystems TCS SP2 共聚焦显微镜
TCS SP2 是 Leica Microsystems TCS 系列激光扫描光谱共聚焦显微镜，强调图像性能、实验通量和灵活实验设置。
- 型号/系列
- TCS SP2
HORIBA EV-140C 光发射光谱蚀刻终点监测仪
EV-140C 发射分析型终点监测仪用于等离子体半导体薄膜工艺中的终点检测或等离子体条件控制。新开发的 Rapture Intensity 算法通过捕捉微弱的信号变化来实现终点检测，捕捉细微发射变化的能力可提高灵敏度
- 事业部
- 半导体
- 产品分类
- 干法制程控制
- Wavelength range
- 200 - 800 nm
- Optical resolution
- <2.0 nm @ =200 - 500 nm; <2.5 nm @ =500 - 700 nm (FWHM theoretical resolution)
PHCbi Cell-IQ 系列 CO2 培养箱 MCO-170AICUVHL-PA
PHCbi Cell-IQ CO2 培养箱集成 H2O2 去污染系统，用于精确控制温度、CO2 水平和污染控制，型号为 MCO-170AICUVHL-PA。
- 外部尺寸
- 24.4 in W x 28.7 in D x 35.6 in H (620 x 730 x 905 mm)
- 内部尺寸
- 19.3 in W x 20.6 in D x 26.2 in H (490 x 523 x 665 mm)
- 内部容积
- 5.8 cu.ft. (165 L)
- 数据采集
- Optional analog on cloud-based monitoring
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AZX 400
WDXRF 顺序型光谱仪，适用于轻元素与金属薄膜，可用于最大 400 毫米试样片、溅射靶材及晶圆的薄膜厚度与成分分析 产品线：Semiconductors
- 产品线
- Semiconductors
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TXRF 3760
可用于最大200毫米晶圆表面污染分析的TXRF光谱仪 产品线：Semiconductors、Total Reflection XRF (TXRF)
- 产品线
- Semiconductors、Total Reflection XRF (TXRF)
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