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分析检测仪器生命科学仪器显微成像与光学样品前处理温控加热与制冷真空泵阀与流体科米瑞仪器应用领域实验室仪器选型

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分析检测仪器431

色谱、质谱、光谱、电化学与理化分析

查看该类产品
八通道电化学工作站
半导体晶圆检测系统
半导体与平板显示器检测显微镜
另有 428 类,进入后查看
生命科学仪器64

细胞、分子、生物制药、培养与成像

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八通道毛细管电泳系统
单细胞分液仪
低温培养箱
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显微成像与光学87

显微镜、成像系统、光学平台与光学测量

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倒置成像显微镜
倒置金相显微镜
倒置研究显微镜
另有 84 类,进入后查看
样品前处理40

消解、萃取、浓缩、纯化、研磨与进样

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冲击式采样器
吹扫捕集系列
吹扫捕集自动进样器
另有 37 类,进入后查看
温控加热与制冷56

加热、恒温、干燥、制冷、水浴、烘箱与培养箱

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低温泵
低温恒温槽系列
低温灭菌器
另有 53 类,进入后查看
真空泵阀与流体40

真空系统、泵、阀、气体、流量与液体处理

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96通道电动移液器
便携式蠕动泵
单级油封旋片泵
另有 37 类,进入后查看
材料物性与力学22

材料表征、热分析、力学、粒度、表面和物性测试

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万能材料试验机
在线粘度计
产品 > 产品系列 > Epsilon 系列 > Epsilon 4 > Epsilon 4 建筑材料
另有 19 类,进入后查看
环境安全与现场检测16

环境监测、安全防护、气溶胶、辐射与现场仪器

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安全称量站
安全储存柜
安全防护箱体
另有 13 类,进入后查看
实验室通用设备33

天平、搅拌、摇床、清洗、灭菌、工作台和常规设备

查看该类产品
半微量天平
大容量方腔高压灭菌器
光纤熔接拉锥工作台
另有 30 类,进入后查看
电子电工与半导体19

半导体、电子测量、电源、电池、探针台与微纳加工

多通道电池测试系统
俄歇电子能谱仪(AES)
化合物半导体沉积系统
PVD 镀膜系统
X射线光电子能谱仪(XPS)
产品 > 产品系列 > Crystal Orientation 系列晶向定位产品 > Wafer XRD 200
产品 > 产品系列 > Crystal Orientation 系列晶向定位产品 > Wafer XRD 300
产品中心 / 等离子工艺设备 / 等离子刻蚀 / RIE等离子刻蚀机Etchlab 200 RIE Etchlab 200
Desktop PVD coater
Bonding / Die To Wafer Bonding Systems
Compound semiconductor ALD batch tool
High-volume semiconductor ALD platform
Lithography / Integrated Lithography Track Systems
Lithography / Lithoscale Maskless Exposure Lithography Systems
Lithography / Mask Alignment Systems
Lithography / Resist Processing Systems
Wafer Inspection / Ellipsometry
Wafer Inspection / Scanning Infrared Depolarization
Wafer Inspection / Vapor Phase Decomposition
实验室工程与配套22

实验室工程、配套系统、家具、管路与辅助系统

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定制飞秒激光微加工工作站
动物废弃物工作站
动物换笼工作站
另有 19 类,进入后查看
其他专用仪器304

覆盖更多实验室专项设备

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传感器
创新型钳形表
刺入式温度计
另有 301 类,进入后查看

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电子电工与半导体

全部分析检测仪器生命科学仪器显微成像与光学样品前处理温控加热与制冷真空泵阀与流体材料物性与力学环境安全与现场检测实验室通用设备电子电工与半导体
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PVD 镀膜系统Korvus Technology型号 HEX UHV

Korvus Technology HEX UHV 超高真空 PVD 系统

HEX UHV 产品资料标题为 World's Most Modular UHV System,并说明其为 HEX 系列 PVD instruments 的最新发展。

型号
HEX UHV
产品类别
Ultra-high vacuum PVD system
真空能力
1 × 10^-10 mbar
平台
HEX Series PVD instruments
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产品图片暂未显示
High-volume semiconductor ALD platformBeneq型号 Transmute™

Beneq Transmute™

brings ALD precision to high-volume production. Built on Beneq’s proprietary 3-step ALD approach – combining plasma pre-treatment, plasma-enhanced ALD, and t...

型号或系列
Transmute™
产品类别
High-volume semiconductor ALD platform
包含型号
Beneq Transmute
Wafer size
200 mm fabs
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产品图片暂未显示
Compound semiconductor ALD batch toolBeneq型号 Prodigy™

Beneq Prodigy™

Learn the technical specifications of the Beneq Prodigy™, such as dimensions, process types, processing temperature range, and substrate types.

型号或系列
Prodigy™
产品类别
Compound semiconductor ALD batch tool
尺寸
3500 x 2500 mm
Max Batch Load
150 mm x 50 wafers, 100 mm x 75 wafers
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EVG ® 610
Lithography / Mask Alignment SystemsEV Group型号 EVG 610

EVG ® 610

Mask Alignment System。The is a compact and multi-purpose R&D system that can handle small substrate pieces and wafers up to 200 mm.

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EVG ® 620 NT
Lithography / Mask Alignment SystemsEV Group型号 EVG 620 NT

EVG ® 620 NT

Mask Alignment System (semi-automated / automated)。The provides state-of-the art mask alignment technology on a minimized footprint area up to 150 mm wafer s...

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EVG ® 6200 NT
Lithography / Mask Alignment SystemsEV Group型号 EVG 6200 NT

EVG ® 6200 NT

Mask Alignment System (semi-automated / automated)。The mask aligner is a versatile tool for optical double-side lithography and wafer sizes up to 200 mm.

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LITHOSCALE ®
Lithography / Lithoscale Maskless Exposure Lithography SystemsEV Group型号 LITHOSCALE

LITHOSCALE ®

Maskless Exposure Lithography System。is a revolutionary, highly versatile maskless exposure lithography platform geared for a variety of microfabrication app...

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LITHOSCALE ® XT
Lithography / Lithoscale Maskless Exposure Lithography SystemsEV Group型号 LITHOSCALE XT

LITHOSCALE ® XT

High Throughput Maskless Exposure Lithography System。is a revolutionary, highly versatile maskless exposure lithography platform geared for a variety of micr...

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EVG ® 101
Lithography / Resist Processing SystemsEV Group型号 EVG 101

EVG ® 101

Advanced Resist Processing System。The perfect solution for single-wafer resist processing in R&D and small-scale production

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EVG ® 105
Lithography / Resist Processing SystemsEV Group型号 EVG 105

EVG ® 105

Stand-alone EVG®105 bake module for soft- or post-exposure bake processes

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EVG ® 120
Lithography / Resist Processing SystemsEV Group型号 EVG 120

EVG ® 120

Automated Resist Processing System。The is a fully automated resist processing system designed for both low-volume and high-volume manufacturing, supporting w...

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EVG ® 150
Lithography / Resist Processing SystemsEV Group型号 EVG 150

EVG ® 150

Automated Resist Processing System。The is a fully-automated resist processing system providing highthroughput performance and supporting wafers up to 200 mm ...

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