紫外线臭氧清洗机 UV-1
UV-1是一款紧凑型台式紫外线臭氧清洗机。该系统将紫外线照射、臭氧和平台加热独特地结合在一起，温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体（GaN、GaAs、InP、SiC）、蓝宝石、陶瓷等各种基材上的有机物
- 型号
- UV-1
- 产品类别
- surface cleaning system
- 技术参数
- 紫外线臭氧清洗机 UV-1
- 技术参数
- 紫外线臭氧清洗机 UV-1紧凑型台式设备
紫外线臭氧清洗机 UV-300H
200 - 300 nm/min的高灰化率。UV-300H是一款高性能的紧凑型紫外线臭氧清洗机。紫外线照射、高浓度臭氧和阶段性加热的独特组合，可温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体（GaN、SiC、GaAs、InP）、蓝宝石、陶瓷等各种基材上的有机物
- 型号
- UV-300H
- 产品类别
- surface cleaning system
- 技术参数
- 紫外线臭氧清洗机 UV-300H
- 技术参数
- 紫外线臭氧清洗机 UV-300H200 - 300 nm/min的高灰化率。
BCE分析天平(120 g | 0.1 mg，外校，带中国型批）
Entris ® II - 完成基本称重任务的优质之选 赛多利斯天平，始终如一的高品质、高价值。Entris ® II - 完成基本称重任务的优质之选。赛多利斯天平，始终如一的高品质、高价值
- 产品线
- Entris® II Essential Line
- 包装
- 400 × 525 × 495 mm
- 型号
- Entris® II
- 天平类型
- 分析天平
BCE精密天平 (220 g | 1 mg，外校，带中国型批）
Entris ® II - 完成基本称重任务的优质之选 赛多利斯天平，始终如一的高品质、高价值。Entris ® II - 完成基本称重任务的优质之选。赛多利斯天平，始终如一的高品质、高价值
- 产品线
- Entris® II Essential Line
- 包装
- 400 × 525 × 495 mm
- 型号
- Entris® II
- 天平类型
- 毫克天平
红外水分测定仪MA160
无论是在实验室还是在生产线，如果有多种样品，MA160 都是合适的选择。它可以方便、可靠且在很短时间内测定液体、糊状物和固体的水分含量。
- 产品线
- MA160
- 国家配置
- 中国（CN）
- 型号
- MA160
- 线电压
- 115 - 230 V
红外水分测定仪
MA37红外水分分析仪占用空间小，测量结果准确度高。而且，采用 BetterClean 设计，方便清洁，而且状态灯能方便的指示当前的测量进度。因此对于相同日常测量任务的用户，MA37是十分理想的选择，指导用户逐 步完成水分分析。
- 产品线
- MA37
- 国家配置
- 中国（CN）
- 型号
- MA37
- 线电压
- 115 - 230 V
Arium® Pro DI 超纯水机，桌面型
Arium ® pro超纯水系统生产ASTM一级超纯水，用于关键应用，如高效液相色谱(HPLC)、聚合酶链式反应(PCR)、抗体生产、细胞培养基制备或电泳等。
- 包装规格
- 1
- 可生产的纯水类型
- 一级超纯水 (18.2 MΩ × cm / 0.055 μS/cm)
- 型号
- Arium® pro
- 安装选项
- 台式
Arium® Mini Plus 实验室超纯水系统
将 Arium ® Mini Plus 超纯水系统用于一般或分析应用，适合日用水量不超过 10 升的应用。这款精益的系统宽度只有 28 厘米（11 英寸），可以轻松集成到各种实验室环境中。可选择是否附带集成紫外线灯。Arium ® Mini Plus 的主要特征 提供 ASTM 一级超纯水和三级反渗透水 采用 5...
- 可生产的纯水类型
- 一级超纯水 (18.2 MΩ × cm / 0.055 μS/cm)
- 型号
- Arium® Mini
- 安装选项
- 台式
- 水系统类型
- I 级超纯水系统
Incucyte® SX5 活细胞成像分析系统
Incucyte® SX5 活细胞分析系统是一款全新升级的赛多利斯活细胞成像和分析产品。它利用多达五个荧光通道（最多同时使用三个），包括一个长波长、低光毒性的近红外通道，已成为长时程延时成像实验的理想选择。
- 型号
- Incucyte®
- 光学模块
- 绿色/橙色/NIR 绿色/红色 代谢
- 全部荧光通道
- Up to 5
- 兼容孔板数量
- 6
Incucyte® SX1 活细胞成像分析系统
赛多利斯 Incucyte SX1 活细胞成像分析系统旨在为规模较小的实验室提供一种可靠且高效的方式，以便实时监测和分析细胞行为，监测时间可持续数天、数周甚至数月。功能和参数
- 型号
- Incucyte®
- 线电压
- 100-240 VAC 50 | 60Hz
- 光学模块
- 绿色/红色
- 全部荧光通道
- 2
Sartoflow ® Smart - 用于工艺开发的切向流系统
Sartoflow ® Smart是一款模块化灵活性小型台式切向流系统，许多下游工艺所使用的超滤和洗滤等应用（如疫苗、单克隆抗体和重组蛋白的纯化）的最佳选择。该系统不仅适用于实验室工艺开发和临床试验，也适用于cGMP生产
- 膜面积
- 50 cm2至0.14 m2
- 再循环泵
- 低剪切力的4活塞隔膜泵
- 应用阶段
- 实验室工艺开发、临床试验及cGMP生产
Biostat STR ® 第3代和Biobrain ® 自动化平台
赛多利斯一次性生物反应器提供Biostat STR®一次性生物反应器和Biobrain®自动化平台，拥有配备集成式Repligen XCell ATF®技术和BioPAT®工具箱，Biostat STR®生物反应器和Flexsafe STR®工艺袋的产品规格为50L到2000L不等，助力您获得灵活快速、高效优质的...
- 产品规格
- 50 L到2000 L
- 工作体积
- 12.5 L到2,000 L
- 系统能力
- 支持从种子培养到最终生产生物反应器
Incucyte ® SX5 活细胞分析仪
Incucyte® SX5 活细胞分析仪。配备了专利光学组件的全新 Incucyte ® SX5可以更加深入地分析每个样本的信息。专为 活细胞分析 设计的颜色多达 5 种，功能更强大
- 荧光通道
- 最多5个不同荧光通道，最多同时使用3个
- 物镜
- 4x、10x和20x物镜
- 培养容器
- 支持可互换托盘并兼容超过600种细胞培养容器
scia Cluster 200
Products Ion Beam Etching Ion Beam Trimming Ion Beam Sputtering more...。Ion Beam Sputtering
- 型号
- scia Cluster 200
- Product category
- Ion Beam Etching
- Available process modules
- CORE TECHNOLOGY MODULES; Magnetron Sputtering; Electron Beam Evaporation (EBE); Ion Beam Etching (IBE); ADD-ON MODULES; Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD); Pre-Cleaning with Reactive Ion Etching (RIE)
scia Mill 150
Products Ion Beam Etching Ion Beam Trimming Ion Beam Sputtering scia Cluster 200 more...
- 型号
- scia Mill 150
- Product category
- Ion Beam Etching
- Substrate size (up to)
- 150 mm dia.
- Substrate holder
- Water-cooled, helium backside cooling contact, substrate rotation 1 to 20 rpm, tiltable in-situ from 0° to 165° in 0.1° steps
scia Mill 200
Products Ion Beam Etching Ion Beam Trimming Ion Beam Sputtering scia Cluster 200 more...
- 型号
- scia Mill 200
- Product category
- Ion Beam Etching
- Substrate size (up to)
- 200 mm dia.
- Substrate holder
- Water-cooled, helium backside cooling contact, substrate rotation 1 to 20 rpm, tiltable in-situ from 0° to 170° in 0.1° steps
scia Mill 300
Products Ion Beam Etching Ion Beam Trimming Ion Beam Sputtering scia Cluster 200 more...
- 型号
- scia Mill 300
- Product category
- Ion Beam Etching
- Substrate size (up to)
- 300 mm dia.
- Substrate holder
- Water-cooled, helium backside cooling contact, substrate rotation 1 to 20 rpm, tiltable in-situ from 0° to 170° in 0.1° steps
scia Trim 200
Products Ion Beam Etching Ion Beam Trimming Ion Beam Sputtering scia Cluster 200 more...
- 型号
- scia Trim 200
- Product category
- Ion Beam Trimming
- Substrate size (up to)
- 200 mm dia., all standard wafer sizes possible
- Substrate holder
- Water-cooled, helium backside cooling contact, electrostatic clamping without edge exclusion
scia Trim 300
Products Ion Beam Etching Ion Beam Trimming Ion Beam Sputtering scia Cluster 200 more...
- 型号
- scia Trim 300
- Product category
- Ion Beam Trimming
- Substrate size (up to)
- 300 mm dia., all standard wafer sizes possible
- Substrate holder
- Water-cooled, helium backside cooling contact, electrostatic clamping without edge exclusion
scia Finish 1500
Products Ion Beam Etching Ion Beam Trimming Ion Beam Sputtering scia Cluster 200 more...
- 型号
- scia Finish 1500
- Product category
- Ion Beam Trimming
- Substrate size (up to)
- 1500 mm dia., 400 kg
- Axis performance
- Max. velocity 0.15 m/s, max. acceleration 15 m/s²
scia Coat 200
Products Ion Beam Etching Ion Beam Trimming Ion Beam Sputtering scia Cluster 200 more...
- 型号
- scia Coat 200
- Product category
- Ion Beam Sputtering
- Substrate size (up to)
- 200 mm dia.
- Substrate holder
- Water-cooled, helium backside cooling contact, substrate rotation 5 to 20 rpm, tiltable in-situ from 0° to 170° in 0.1° steps
scia Coat 500
Products Ion Beam Etching Ion Beam Trimming Ion Beam Sputtering scia Cluster 200 more...
- 型号
- scia Coat 500
- Product category
- Ion Beam Sputtering
- Substrate size (up to)
- 500 mm x 300 mm, 300 mm dia. for rotation
- Substrate holder
- Linear movement from 0.1 mm/min up to 15 mm/s, rotation up to 300 rpm (max. 300 mm dia.)
scia Opto 300
Products Ion Beam Etching Ion Beam Trimming Ion Beam Sputtering scia Cluster 200 more...
- 型号
- scia Opto 300
- Product category
- Ion Beam Sputtering
- Substrate size (up to)
- 300 mm dia.
- Substrate holder
- Substrate rotation up to 60 rpm, includes optical thickness monitor (OTM) and test glass changer
scia Multi 300
Products Ion Beam Etching Ion Beam Trimming Ion Beam Sputtering scia Cluster 200 more...
- 型号
- scia Multi 300
- Product category
- Magnetron Sputtering
- Substrate size (up to)
- 300 mm dia.
- Sputter source
- 4 or 6 rectangular magnetrons (381 mm x 89 mm)
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