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Micro-Z CL
光谱与元素分析仪器Rigaku型号 Micro-Z

Micro-Z CL

即使是硫含量未知的样品,也可以通过测量硫的X射线荧光强度来进行校正,以获得更可靠的定量性能。无需使用昂贵的氦气,因为样品和光学室之间的分隔装置可使光学元件处于真空状态

Quantitative Analysis with XRF
Mining Applications 2026年8月17日 - 2026年8月17日 Webinar 网站
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Micro-Z ULS
光谱与元素分析仪器Rigaku型号 Micro-Z

Micro-Z ULS

波长色散 X 射线荧光硫(S)分析仪。根据 ASTM D2622-10 测量石油燃料中的超低硫(ULS)。理学 波长色散 X 射线荧光(WDXRF)仪器专为柴油、汽油和其他燃料的超低硫分析而设计,其新颖的设计可同时测量硫的谱峰强度和背景强度

Quantitative Analysis with XRF
Mining Applications 2026年8月17日 - 2026年8月17日 Webinar 网站
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Simultix 15
光谱与元素分析仪器Rigaku型号 Simultix

Simultix 15

多元素同步分析型波长色散 X 射线荧光光谱仪。Simultix15 结构紧凑、智能化程度高,是一款功能强大的元素分析工具,在许多工业领域都表现出卓越的性能。40 多年来,理学 Simultix 同步波长色散 X 射线荧光(WDXRF)光谱仪系统已被广泛用作元素分析工具,用于钢铁和水泥等要求高通量和高精度的行业的过程控制

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Supermini200
光谱与元素分析仪器Rigaku型号 Supermini200

Supermini200

高功率台式扫描型波长色散X射线荧光光谱仪。固体、液体、粉末、合金和薄膜的元素分析。与同类 XRF仪器相比,理学 兼具高分辨率与紧凑设计。作为一款高功率台式扫描型波长色散 X 射线荧光(WDXRF)光谱仪,能够分析几乎所有材料中从氧(O)到铀(U)的元素,其独特之处在于同时实现低拥有成本(COO)、高分辨率和低检测...

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ZSX Primus III NEXT
光谱与元素分析仪器Rigaku型号 ZSX

ZSX Primus III NEXT

用于工业应用的扫描型波长色散 X 射线荧光光谱仪。理学 通过定量测定粉末和固体样品中从 Be 到 Cm 的广泛范围元素,提供快速的元素工业质量控制。这款新型扫描波长色散 X 射线荧光光谱仪采用理学独特的 X 射线管上方配置,建立在成功的 ZSX Primus 系列平台之上

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ZSX Primus IV
光谱与元素分析仪器Rigaku型号 ZSX

ZSX Primus IV

上照式扫描型波长色散 X 射线荧光光谱仪。固体、液体、粉末、合金和薄膜的元素分析。作为一款上照式扫描型波长色散 X 射线荧光(WDXRF)光谱仪,理学 可对多种类型样品进行快速定量分析,测定从铍(Be)到锔(Cm)的主量元素与微量元素,且对标准品的依赖极低

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ZSX Primus IVi
光谱与元素分析仪器Rigaku型号 ZSX

ZSX Primus IVi

下照式顺序型波长色散 X 射线荧光光谱仪。液体、合金和镀层金属的全面精准 X 射线分析。这款下照式高性能光谱仪可对液体、合金和镀层金属等样品进行全面精准的分析。ZSX Primus IV𝒾 波长色散 X 射线荧光光谱仪配备业界最薄的 30 微米标准铍(Be)窗,结合卓越的分析性能与灵活配置,为复杂样品分析提供理...

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scia Mill 150
光谱与元素分析仪器scia Systems型号 scia Mill 150

scia Mill 150

Products Ion Beam Etching Ion Beam Trimming Ion Beam Sputtering scia Cluster 200 more...

型号
scia Mill 150
Product category
Ion Beam Etching
Substrate size (up to)
150 mm dia.
Substrate holder
Water-cooled, helium backside cooling contact, substrate rotation 1 to 20 rpm, tiltable in-situ from 0° to 165° in 0.1° steps
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scia Mill 200
光谱与元素分析仪器scia Systems型号 scia Mill 200

scia Mill 200

Products Ion Beam Etching Ion Beam Trimming Ion Beam Sputtering scia Cluster 200 more...

型号
scia Mill 200
Product category
Ion Beam Etching
Substrate size (up to)
200 mm dia.
Substrate holder
Water-cooled, helium backside cooling contact, substrate rotation 1 to 20 rpm, tiltable in-situ from 0° to 170° in 0.1° steps
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scia Mill 300
光谱与元素分析仪器scia Systems型号 scia Mill 300

scia Mill 300

Products Ion Beam Etching Ion Beam Trimming Ion Beam Sputtering scia Cluster 200 more...

型号
scia Mill 300
Product category
Ion Beam Etching
Substrate size (up to)
300 mm dia.
Substrate holder
Water-cooled, helium backside cooling contact, substrate rotation 1 to 20 rpm, tiltable in-situ from 0° to 170° in 0.1° steps
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scia Trim 300
光谱与元素分析仪器scia Systems型号 scia Trim 300

scia Trim 300

Products Ion Beam Etching Ion Beam Trimming Ion Beam Sputtering scia Cluster 200 more...

型号
scia Trim 300
Product category
Ion Beam Trimming
Substrate size (up to)
300 mm dia., all standard wafer sizes possible
Substrate holder
Water-cooled, helium backside cooling contact, electrostatic clamping without edge exclusion
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scia Finish 1500
光谱与元素分析仪器scia Systems型号 scia Finish 1500

scia Finish 1500

Products Ion Beam Etching Ion Beam Trimming Ion Beam Sputtering scia Cluster 200 more...

型号
scia Finish 1500
Product category
Ion Beam Trimming
Substrate size (up to)
1500 mm dia., 400 kg
Axis performance
Max. velocity 0.15 m/s, max. acceleration 15 m/s²
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