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MinION
Portable yet powerful, MinION is ideal for labs looking for rapid results without compromise. Take your insights further afield with the real-time nanopore s...
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PromethION
Why PromethION? On-demand sequencing Run up to 2 or 24 independently addressable, high-output PromethION Flow Cells.
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PromethION 2 Integrated
Small box, big picture Integrated, high-performance compute with touchscreen control.
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PromethION 24
Sequencing to the power of 24 Production-scale Run up to 24 independent high-output PromethION Flow Cells. High-performance Superpowered GPUs for real-time i...
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GridION Q
Why GridION Q Fixed configuration Features supporting end user 21 CFR Part 11 and EU GMP Annex 11 compliance
PlasmaPro 100 ALE
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。为下一代半导体器件提供精确的刻蚀工艺控制。该系统专为GaN HEMT应用的凹槽刻蚀和纳米尺度层刻蚀等工艺而设计，其数字/循环刻蚀工艺可提供低损伤、光滑的表面
- 型号
- PlasmaPro 100 ALE
- 产品分类
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / ALE
- 工艺类型
- 原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津
- 工艺类型
- 原子层沉积(ALD)等效工艺 卓越的刻蚀深度控制 非常适用于纳米尺度层
PlasmaPro 100 Estrelas
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。若要查看此视频，请启用JavaScript，并考虑升级到支持HTML5视频的web浏览器
- 型号
- PlasmaPro 100 Estrelas
- 产品分类
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / DSiE
- 工艺类型
- 原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津
- 产品特性 2
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器
Ionfab 300 IBD
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。客户选择我们的离子束沉积产品是因为它们能够生产具有高质量，致密和表面光滑的沉积薄膜
- 型号
- Ionfab 300 IBD
- 产品分类
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / IBD
- 工艺类型
- 原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津
- 工艺类型
- 离子束沉积产品是因为它们能够生产具有高质量，致密和表面光滑的沉积薄膜
Ionfab 300 IBE
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式
- 型号
- Ionfab 300 IBE
- 产品分类
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / Ion Beam
- 工艺类型
- 原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津
- 工艺类型
- 离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广
PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE Etch
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。若要查看此视频，请启用JavaScript，并考虑升级到支持HTML5视频的web浏览器
- 型号
- PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE Etch
- 产品分类
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / ICP Etching
- 晶圆/样品尺寸
- 适用于最大尺寸为200毫米的晶圆，支持包括GaAs和InP激光光电子、SiC和GaN电力电子/射频以及
- 晶圆/样品尺寸
- 兼容 晶圆尺寸之间的快速转换 原位腔室清洁和终点控制功能
PlasmaPro 100 ICPCVD
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。This ICPCVD process module is designed to produce high quality films at low growth temperatures, enabled through hig...
- 型号
- PlasmaPro 100 ICPCVD
- 产品分类
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / ICPCVD
- 晶圆/样品尺寸
- 适用温度范围宽 兼容200mm以下所有尺寸的晶圆 快速更换不同尺寸晶圆 购置成本低且易于维护 紧密的设计，布局灵活 电阻丝加热电极，最高温度
- 工艺类型
- 原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津
PlasmaPro 100 Nano
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。用于生长1D / 2D纳米材料和异质结构的CVD / PECVD工具。通过在线催化剂活化和严格的工艺控制，实现纳米材料的高性能生长
- 型号
- PlasmaPro 100 Nano
- 产品分类
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / Nanoscale Growth
- 工艺类型
- 原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津
- 工艺特点
- 均匀性以及灵活的温度范围，最高可达1200°C 700°C、800°C或1200°C
PlasmaPro 100 PECVD 等离子体、原子层、离子束刻蚀沉积系统 - 牛津仪器
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。设计PECVD工艺模式的目的是要在控制薄膜性能，如折射率、应力、电学特性和湿法化学刻蚀速率的前提下，生产均匀性好且沉积速率高的薄膜
- 型号
- PlasmaPro 100 PECVD 等离子体、原子层、离子束刻蚀沉积系统 - 牛津仪器
- 产品分类
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / PECVD
- 晶圆/样品尺寸
- 适用温度范围宽 兼容200mm以下所有尺寸的晶圆 可快速更换硬件以适用于不同尺寸的晶圆 成本低且易于维护 电阻丝加热电
- 工艺类型
- 原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津
PlasmaPro 100 RIE
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。模式可为多种材料提供各向异性干法刻蚀工艺。实时监测清洗工艺，并且可自动停止工艺
- 型号
- PlasmaPro 100 RIE
- 产品分类
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / RIE Etching
- 晶圆/样品尺寸
- 兼容200mm以下所有尺寸的晶圆 快速更换不同尺寸晶圆 购置成本低且易于维护 出色的均匀性，高产量和高工艺精度 实时监测清洗
- 温度范围
- -150°C至400°C
FlexAL
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。系统可提供远程等离子体原子层沉积（ALD），这为纳米结构和器件的工程设计提供了一系列新的灵活性和可行性
- 型号
- FlexAL
- 产品分类
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / ALD
- 晶圆/样品尺寸
- 处理高达200mm的晶圆
- 工艺类型
- 原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津
PlasmaPro 100 Polaris
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。凭借在蚀刻GaN，SiC和蓝宝石等材料方面的丰富经验，我们的技术既能够满足性价比的要求、又能使器件的性能得到更优化
- 型号
- PlasmaPro 100 Polaris
- 产品分类
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / ICP Etching
- 工艺类型
- 原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津
- 工艺特点
- 均匀性 适用于蓝宝石的静电压盘技术 蓝宝石和硅上的GaN 可与其它PlasmaPro系
PlasmaPro 80 ICPCVD
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。PlasmaPro 80是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案
- 型号
- PlasmaPro 80 ICPCVD
- 产品分类
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / ICPCVD
- 工艺类型
- 原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津
- 工艺特点
- 均匀性 晶圆最大可达200mm 符合半导体行业 S2 / S8标准
PlasmaPro 800 PECVD
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。PlasmaPro 800 为大批量晶圆和 300mm 晶圆的等离子增强化学气相沉积 （PECVD） 工艺提供了灵活的解决方案，它采用了紧凑的开放式装载系统
- 型号
- PlasmaPro 800 PECVD
- 产品分类
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / PECVD
- 工艺类型
- 原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津
- 产品特性 2
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器
PlasmaPro 80 RIE
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案
- 型号
- PlasmaPro 80 RIE
- 产品分类
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / RIE Etching
- 工艺类型
- 原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津
- 工艺特点
- 均匀性 晶圆最大可达200mm 符合半导体行业 S2 / S8标准
PlasmaPro 80 ICP
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。是一种结构紧凑、小型且使用方便的直开式系统，可提供多种刻蚀解决方案。它易于放置，便于使用，且能够确保工艺质量
- 型号
- PlasmaPro 80 ICP
- 产品分类
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / ICP Etching
- 工艺类型
- 原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津
- 工艺特点
- 均匀性 晶圆最大可达200mm 符合半导体行业 S2 / S8标准
PlasmaPro 80 PECVD
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。PlasmaPro 80是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案
- 型号
- PlasmaPro 80 PECVD
- 产品分类
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / PECVD
- 工艺类型
- 原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津
- 工艺特点
- 均匀性 晶圆最大可达200mm 符合半导体行业 S2 / S8标准
PlasmaPro 800 RIE
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。PlasmaPro 800系列是结构紧凑、且使用方便的直开式系统，该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻（RIE）工艺提供了灵活的解决方案
- 型号
- PlasmaPro 800 RIE
- 产品分类
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / RIE Etching
- 晶圆/样品尺寸
- 处理量产级别的批量以及300mm晶圆的工艺
- 工艺类型
- 原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津
PlasmaPro 1000
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。若要查看此视频，请启用JavaScript，并考虑升级到支持HTML5视频的web浏览器
- 型号
- PlasmaPro 1000
- 产品分类
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / PECVD
- 工艺类型
- 原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津
- 产品特性 2
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器
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DSC Instruments
Our DSC portfolio of applications, instruments and services, combined with our expertise in materials characterization, can help you push the edge of
- 型号/系列
- DSC Instruments
- 页面产品标记
- instruments
- 技术类别
- Differential Scanning Calorimetry (DSC)
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